湖南兴晟新材料科技有限公司半导体用新材料及其关键设备项目环境影响报告表审批前公示

来源:石峰区政府 作者:石峰区政府 发布时间:2019-01-07 【字体大小:

湖南兴晟新材料科技有限公司半导体用新材料及其关键设备项目环境影响报告表审批前公示

经审议,我局拟于近日内批准《湖南兴晟新材料科技有限公司半导体用新材料及其关键设备项目环境影响报告表》,现就项目环评相关情况予以公示5个工作日。如有意见,请在公示期内向我局来信来电进行反映。

联系电话:0731-28682799

听证告知:依据《中华人民共和国行政许可法》,自公示之日起五个工作日内申请人、利害关系人可对以下拟作出的建设项目环境影响评价文件批复决定提出听证申请。

 

项目名称

半导体用新材料及其关键设备项目

建设地点

株洲市石峰区

建设单位

湖南兴晟新材料科技有限公司

环境影响评价机构

湖南景玺环保科技有限公司

项目概况

湖南兴晟新材料科技有限公司(以下简称公司)拟租用湖南省株洲石峰区轨道智谷三期时代社区3#厂房,总投资10000万元新建的半导体专用新材料及其关键装备项目。项目拟分两期建设,一期年产CVD SiC涂层托盘、坩埚120t、二期年产CVD SiC涂层托盘、坩埚和陶瓷基复合材料180t

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施

施工期在采取必要措施后,项目施工产生的噪声、扬尘、建筑垃圾和施工废水对周围环境不会造成明显污染影响,对生态环境的影响较小。

项目一期营运期废水污染源有:工件清洗废水、HCl吸收液、地面清洁废水、生活污水、纯水制备废水。一期建成后,废水产生量很小,仅0.089t/a,主要为生活污水。项目工件清洗废水、地面清洁废水等其它废水量分别经预处理后,与生活污水一同入“一体化生活废水处理设备”处理达标外排。二期建成后,新增废水0.078t/a,两期废水排放量为0.167t/a。废水类型与一期类似,采用与一期废水相同的处理工艺处理后达标外排。

拟建工程一期废气污染源有:碳化硅涂层废气、机加工废气。碳化硅涂层废气拟经过滤器过滤+多级碱液喷淋塔处理后(粉尘处理效率为95%NaOH溶液吸收后,吸收HCL效率为98%),经15m高排气筒外排。机加工废气由设备自带除尘装置处理,经15m高排气筒外排。达到《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)表2二级标准(粉尘120mg/m33.5kg/h),污染物的排放速率均低于标准排放速率的一半,对环境空气及敏感目标不会产生明显的不利影响。拟建工程二期废气污染源有:①碳化硅涂层废气、碳化硅涂层机加工废气、化学沉积机加废气、化学沉积废气。碳化硅涂层废气拟经过滤器过滤+多级碱液喷淋塔处理(粉尘处理效率为95%NaOH溶液吸收HCL效率为98%),经15m高排气筒外排。碳化硅涂层机加工废气由设备自带除尘装置处理,经15m高排气筒外排。化学沉积机加废气,经集气罩收集,布袋除尘处理后(集气罩85%的捕集效率、布袋除尘效率95%),经15m高排气筒外排。化学沉积废气经过滤网过滤+水域吸附+燃烧法处理后(炭黑去除效率98%VOCs、非甲烷总烃去除效率99%),经15m以上排气筒外排。

拟建工程一期固体废物包括一般工业固体废物:设备机加过程中粉尘收集系统产生粉尘、进料过程中产生废弃的原辅材料包装,污水处理产生污泥,均属于一般工业固废,送城市垃圾填埋场填埋处置。危险固废:机加工设备产生废润滑油,送有相应处理资质单位合理处理。办公生活垃圾,送城市垃圾填埋场填埋处置。本项目在厂房内设置有工业固废贮存间,对各类工业固废进行分类收集、暂存。拟建工程二期固体废物包括一般工业固体废物:设备机加过程中粉尘收集系统产生粉尘、机加工边角余料、进料过程中产生废弃的原辅材料包装、污水处理产生污泥,送城市垃圾填埋场填埋处置。CVD炉炭黑灰5.05t/a,送碳制品生产厂家利用。危险固废:机加工设备产生废润滑油、CVD炉化学沉积反应生成废油,送有相应处理资质单位合理处理。办公生活垃圾,送城市垃圾填埋场填埋处置。本项目在厂房内设置有工业固废贮存间,对各类工业固废进行分类收集、暂存。

拟建工程一期除公用设备凉水塔为高噪声设备外,其它机械加工设备及风机、空压机等设备噪声均低于85dB(A)。凉水塔选用两级凉水塔,噪声可降至75dB(A)。其它设备进行基础减震、隔声、吸声及合理平面布局等措施后,项目厂界噪声可满足GB12348-2008《工业企业厂界环境噪声排放标准》中2类标准要求。拟建工程二期除切割机为高噪声设备外,其它机械加工设备及风机、空压机等设备噪声均低于85dB(A)。项目对切割机进行减震降噪,置封闭隔离间。其它设备进行基础减震、隔声、吸声及合理平面布局等措施后,项目厂界噪声可满足GB12348-2008《工业企业厂界环境噪声排放标准》中2类标准要求。

公众参与情况